丹陽中研（DY）研磨液由已申請＊＊、＊＊特色的懸浮分散劑、粒度分布較窄的研磨料組成。丹陽中研研磨液＊＊＊＊的懸浮分散劑可提供研磨料＊＊的懸浮分散性，材料去除率，還能帶來出色的表面質量這一額外收益。丹陽研磨液是半導體材料 (藍寶石、SiC、矽)、金相材料和精加工的理想選擇。 中研金剛石研磨液使用的金剛石表面擁有獨具特色的微晶面結構，可提供小切削點，大幅降低工件的表面粗糙度。 ＊新一代中研研磨液配方專門設計為兼顧高材料去除率和可接受表面質量的應用提供高經濟性解決方案。已申請＊＊的德特研磨液配方所具有的獨特表面特性以及長久的懸浮分散性能仍舊是我們＊新一代研磨液的主要優勢，但其化學成分可進行定制，以優化性能。＊新一代合銳研磨液配方針對半導體材料 (如藍寶石、SiC、矽) 經過優化，它通過改進生産率和提高産量來降低總體制造成本，進而提供卓越的價值主張。已申請＊＊的丹陽中研磨液的獨特特性結合創新水油基研磨液配方，可為廣大客戶提供滿足動态電子市場的大量産品組合。

氧化鋁粉體顆粒在液相中的分散過程分布解析分散的實質就是使顆粒在一定環境下分離散開的過程。1.氧化鋁粉體顆粒在超細粉體的制備過程中，“粉碎與反粉碎”過程實際就是粉碎過程中新生粒子的分散和團聚問題，它對＊終産品的細度起到至關重要的作用;2.在粉體制備行業，粉體分散性的好壞直接影響着分級效果和分級産品的細度及均勻性；另外，分散性對粉體的輸送、混合、均化和包裝的作用也不容忽視;3.在化工領域，如塗料、染料、油墨、化妝品等，分散及分散穩定性直接影響着産品的質量和性能;4.在材料科學領域，某種元素(物質)在材料機體中的分散程度決定了材料的性能和質量。研究表明，材料的損壞斷裂和腐蝕等主要是發生在材料的不均勻處及缺陷處。組成材料的不同組分的分散程度越高，材料的性能越好。總之，在許多領域，分散已成為提高産品質量和性能以及提高工藝效率不可或缺的技術手段。 一、氧化鋁粉體顆粒在液相中分散過程氧化鋁超細粉體的分散介質通常為氣體和液體。而本文隻對超細粉體在液體中的分散進行論述。顆粒分散過程分為四個階段：1、摻合，2、浸潤，3、顆粒群(團粒和團塊)的解體，4、已分散顆粒的絮凝。事實上粉體在液體中的分散過程本質上受兩種基本作用的支配：1. 液體對粉體顆粒的影響，即粉體顆粒與液體的作用——浸濕；2. 液體中粉體顆粒之間的相互作用。3. 粉體顆粒在液體中分散機理也就是浸濕和在液體中粉體顆粒之間的相互作用。下面來讨論粉體顆粒在液體中的分散過程。1、浸濕氧化鋁粉體顆粒被液體浸濕的過程實際上就是液體和氣體之間争奪粉體表面的過程。這關鍵取決于粉體表面與液體的極性差異。粉體顆粒被液體浸濕的過程主要是顆粒表面的潤濕性。浸濕性能通常用潤濕接觸角θ來度量。潤濕接觸角θ的表達式如下所示：具有完全潤濕性的顆粒，它們沒有接觸角，很易被液體浸濕。不完全潤濕粉體(0<90。)，它們能否被液體浸濕取決于顆粒的密度及粒度，密度及粒度足夠大，顆粒将被浸濕到液體中。流體動力學條件對粉體的浸濕也有重要的作用，提高液體湍流強度可降低粉體的浸濕粒度。從潤濕熱的角度來分析浸濕的過程，當清潔的固體表面被液體潤濕時，通常會放出熱量，這種熱稱為潤濕熱。潤濕過程其實就是固/氣界面的消失和固/液界面的形成，因此潤濕熱可以下述公式表示：潤濕熱描述了液體對固體的潤濕程度，如果潤濕熱越大，說明固體在液體中潤濕程度越好，反之則越差。2、固體在液體中粉體顆粒在液體中的團聚狀态氧化鋁粉體顆粒被浸濕後，在液體中所發生的主要是粉體顆粒的分散和聚團的動态可逆過程，即分散↔聚團的循環運動。而在分散體系中可逆過程的反應方向主要取決于：粉體顆粒間的相互作用以及顆粒所處的流體動力學狀态和物理場。粉體顆粒間的相互作用力主要包括：分子作用力、雙電層靜電力、結構力以及因吸附高分子而産生的空間效應力3、顆粒分散體系的分類分散系是指一種物質在另一種物質裡被分散成微小粒子的體系。分散體系包括分散相和分散介質。被分散的物質稱為分散相，而另一種物質叫分散介質。根據不同的依據，分散體系的分類也不盡相同。分散體系按聚集狀态分類表：二、顆粒在液相中的常見分散技術通過超細顆粒在液相中分散過程的分析得出增強超細顆粒的分散手段，即選擇合适的溶劑或溶液提高粉體的潤濕熱，使潤濕自發進行；設計高效的分散機械使得分散有效體積和能量利用率得以提高；選擇合适的分散劑，使破碎後原生粒子十分穩定，阻止再團聚。顆粒分散按分散作用目的可分為預先分散和裂解團聚分散。從分散方式來分可分為物理分散和學分散。物理分散有機械分散、超聲分散、電磁分散和撞擊流法等。而化學分散則是利用分散劑不同的分散機理來達到對顆粒的分散。1物理分散A、機械分散主要利用強烈攪拌所産生的沖擊、剪切以及拉伸等機械力來阻止聚團或碎解聚團，從而達到分散的目的。顆粒被部分浸濕後，用機械的力量使剩餘的聚團碎解。浸濕過程中的攪拌能增加聚團的碎解程度，從而加快了整個分散過程。B、超聲分散超聲波(20KHz–5×108Hz)具有波長短，近似直線傳播，能量容易集中，從而産生強烈振動，并可導緻液相中的空化作用。利用超聲波進行分散的方法稱為超聲波分散。C、電磁分散利用鐵磁性攪拌棒在交變電壓産生的磁場中的運動來實現對顆粒的分散。這種方法對超細粉體分散的效果不明顯。D、撞擊流法利用射流撞擊器在撞擊碰撞的過程中産生的高壓、高速湍流以及超聲波作用來對顆粒進行分散的過程。撞擊流技術适合粉體亞微米級的分散。以上介紹了物理分散的幾種類型，但物理分散存在一個共同的問題是，一旦離開物理方法産生的湍流場，外部環境複原，粉體顆粒可能重新聚團。但作為＊常用的分散手段，通過設計合适的分散機械提高體積和能量利用率是非常有研究價值的。2化學分散化學分散是工業生産中廣泛應用的一種分散方法。從顆粒分散機理出發通過改變粉體表面的性能(通常加分散劑)，從而改變粉體顆粒和液體之間以及粉體顆粒自身之間的相互作用，達到粉體顆粒分散的目的。超微粒子的表面改性及粒子複合，在超細粉體制備技術中通常稱為粒子設計。A、分散劑分散劑是指能使物質分散于水等介質中而成膠體溶液的物質，主要作用是降低微粒間的結合力而防止絮凝或附聚。分散劑主要包括三大類：無機電解質(LPL、SS、NaOH等)、有機高聚物(聚丙烯酰胺系列、聚氧化乙烯系列、單甯、木質素等天然高分子等)、表面活性劑。不同種類的分散劑分散機理是各不相同。B、分散劑的選擇根據以上對各種分散劑機理的分析，結合DLVO理論、空間位阻理論和空缺穩定理論，選擇分散劑應把握以下兩個原則：1）能增加位壘Umax的高度，即提高粒子的表面電荷量，從而提高粒子的靜電排斥作用，以達到粒子分散穩定性的目的。2）粒子吸附分散劑後，吸附層在粒子周圍起到一個屏障作用，防止顆粒相互接近，即利用吸附層的空間位阻作用來達到分散體系穩定的目的。研究表明化學分散對超細粉體的分散起到至關重要的作用，物理分散和化學分散有機地結合可以獲得＊佳的分散效果。

   丹陽市中研研磨材料科技有限公司用水力分級制備a-平闆狀氧化鋁研磨微粉（或片狀氧化鋁研磨微粉），該片狀的氧化鋁粉體由于其特殊的二維平面結構，具有良好的附着力、顯著的屏蔽效應與反射光線的能力，同時具有耐酸堿性、耐高溫、硬度高、熔點高、導熱性高和電阻率高等很多優良的性能。   丹陽市中研研磨材料科技有限公司用水力分級制備的a-平闆狀氧化鋁研磨微粉（或片狀氧化鋁研磨微粉），該微粉粒徑較小、分散性良好的片狀氧化鋁粉體可以廣泛應用于顔料、塗料、熒光粉原料、化妝品、汽車面漆、油墨及磨料等諸多領域。據了解，片狀氧化鋁還可以成功地用作聚合物的填料，以增強其熱導率。氧化鋁的熱導率比有機聚合物高很多，在聚合物中添加一定量的片狀氧化鋁，就可以形成氧化鋁網絡，該網絡能夠把大部分熱量傳過。用這種聚合物—陶瓷複合材料制備的電子元件的壽命可以大大提高。   a-平闆狀（片狀氧化鋁微粉簡易制備過程：一般在碳酸氫铵和PEG3000混合溶液中,加入硫酸鋁铵和PEG400的混合溶液得到白色沉澱,将白色沉澱物與正丁醇共沸後,在900℃煅燒1h,得到γ-Al2O3粉體,粉體粒徑約為20nm;在1200℃煅燒1h,得到片狀α-Al2O3粉體,粉體粒徑約為60nm。     另外，将氧化鋁片晶作為第二相增韌劑加入到氧化鋁陶瓷中，可以起到有效增加裂紋反射和橋聯的作用，對提高陶瓷的斷裂韌性有明顯的效果，克服了一般氧化鋁陶瓷機械性能較低而制約其更加廣泛應用的不足。因此，片狀氧化鋁粉體有着廣闊的發展前景。

化學機械抛光(Chemical Mechanical Polishing，CMP)技術是提供全局平坦化的表面精加工技術，其中抛光液是CMP技術中的關鍵因素。抛光液主要由磨料、溶劑和添加劑組成，其種類、性質、粒徑大小、顆粒分散度及穩定性等與*終抛光效果密切相關。<目前市場上使用*為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中，SiO2抛光液選擇性、分散性好，機械磨損性能較好，化學性質活潑，并且後清洗過程處理較容易；缺點為在抛光過程中易産生凝膠，對硬底材料抛光速率低。CeO2抛光液的優點是抛光速率高，材料去除速率高；缺點是黏度大、易劃傷，且選擇性不好，後續清洗困難。Al2O3抛光液的缺點在于選擇性低、分散穩定性不好、易團聚等，但對于硬底材料藍寶石襯底等卻具有優良的去除速率。Al2O3抛光液簡介Al2O3抛光液簡介：α-氧化鋁（剛玉）的硬度高，穩定性好，納米級的氧化鋁适用于光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基闆、晶體表面等的精密抛光，應用相當廣泛。當前，以高亮度GaN基藍光LED為核心的半導體照明技術在照明領域引起了很大的轟動，并成為全球半導體領域研究的熱點。但GaN很難制備，必須在其它襯底晶片上外延生長薄膜，如藍寶石晶片或碳化矽晶片，因此晶片的抛光也成為關注的焦點。近年來，國際上采用了一種新的工藝，即用Al2O3抛光液一次完成藍寶石、碳化矽晶片的研磨和抛光，大大提高抛光效率。不過，由于納米α-氧化鋁的硬度很高，因此抛光時易對工件表面造成嚴重的損傷；而且納米氧化鋁的表面能比較高，粒子易團聚，也會造成抛光工件的劃痕、凹坑等表面缺陷。近年來對氧化鋁抛光液的研究主要集中在納米磨料制備、氧化鋁顆粒表面改性、氧化鋁抛光液混合應用等方面。Al2O3抛光液磨料的制備<在化學機械抛光中使用的氧化鋁磨料，常選用硬度大、性能穩定、不溶于水、不溶于酸堿的納米α-Al2O3。作為化學機械抛光磨料，氧化鋁顆粒的大小、形狀、粒度分布都影響抛光效果。在LED行業，CMP抛光液中常選用粒徑50∼200 nm、粒徑分布均勻的納米α-Al2O3。近年來對α-Al2O3磨料顆粒的研究主要集中在納米級球形顆粒的制備上。常見制備方法有以下幾種。固相法。其中的硫酸鋁铵熱解法、改良拜爾法、爆炸法等是比較成熟的制備方法。固相法制備超細粉體的流程簡單，無需溶劑，産率較高，但生成的粉體易産生團聚，且粒度不易控制，難以得到分布均勻的小粒徑的高質量納米粉體。氣相法。主要有化學氣相沉澱法，通過加熱等方式改變物質形态，在氣體狀态下發生反應，之後在冷卻過程中形成顆粒。氣相法的優點是反應條件可以控制、産物易精制，顆粒分散性好、粒徑小、分布窄，但産出率低，粉末難收集。<br><b液相法。常見的有水解、噴霧幹燥、溶膠凝膠、乳化等幾種方法。液相法的優點體現在：可精确控制産物的化學組成，納米粒子的表面活性高，形狀容易控制分散均勻，生産成本比較低，容易實現工業化生産。提高Al2O3抛光液穩定性的方法近年來随着LED産業的發展、寶石襯底需求量的增大，氧化鋁抛光液憑借較高的抛光速率在藍寶石抛光液中有很好的應用前景。然而氧化鋁抛光液在抛光過程中存在分散穩定性差、抛光過程容易出現凝聚現象使抛光面出現劃痕的問題。有許多研究者對提高氧化鋁抛光液穩定性進行了研究。納米氧化鋁顆粒在極性的水溶液中，氧化鋁顆粒由于受靜電力等作用發生團聚，容易出現絮凝分層等現象，破壞抛光液的分散性、穩定性。由磨料顆粒的團聚現象産生的大顆粒膠團，是化學機械抛光過程中襯底表面出現劃痕的主要原因。氧化鋁顆粒的粒徑大小及分布、Zeta電位，以及抛光液添加穩定劑、分散劑的種類和質量對抛光液穩定性有較大的影響。對納米氧化鋁表面改性可提高顆粒表面規則度，減少抛光劃痕和凹坑，同時提高氧化鋁磨料分散度和抛光液穩定性。常見的處理方法為利用偶聯劑、有機物、無機物等在硬度較高的氧化鋁粒子表面包覆一層較軟的物質以減少抛光劃痕和凹坑等缺陷，進而改善氧化鋁抛光液的穩定性和分散性，同時能有效提高抛光磨料的耐磨性能。此外，還可以通過改變氧化鋁顆粒Zeta電位來提高抛光液的穩定性。Al2O3抛光液存在的問題磨料粒子的分散問題。目前，國内外常用超聲波、機械攪拌、表面處理等機械化學方法對納米磨料粒子進行分散，但是往往達不到效果，因此，納米磨料粒子的分散穩定性需要進一步的研究。<br><br>抛光液對環境的影響。化學機械抛光液中的化學成分，如氨、酸等有毒成分對環境和人體的傷害很大。為此，在進一步研究抛光液制備工藝的同時，抛光液的循環利用技術也應進一步完善，做到經濟發展與環境保護相協調。

簡述拜耳法生産氧化鋁的原理。 用苛性堿溶液在一定溫度、一定壓力條件下溶出鋁土礦，氧化鋁被溶出制得鋁酸鈉溶液，鋁酸鈉溶液淨化後經過降溫、添加晶種、攪拌分解析出氫氧化鋁，析出的氫氧化鋁經分離、洗滌、焙燒後得到氧化鋁。分解後的母液（主要成分NaOH）經蒸發再重新溶出新的一批鋁土礦，進入下一循環。氧化矽等雜質成為赤泥，經洗滌後外排或用于燒結法配料。 拜耳法的實質也就是下述反應在不同條件下的交替進行： 拜耳法生産氧化鋁的主要工序有那些？ 原礦漿制備、溶出、溶出礦漿稀釋、赤泥分離和洗滌、晶種分解、氫氧化鋁分級和洗滌、氫氧化鋁焙燒、母液蒸發及蘇打苛化等。 鋁酸鈉溶液的濃度 鋁酸鈉溶液的基本成分是Al2O3和Na2O，工業上鋁酸鈉溶液各成分的濃度一般是用每升鋁酸鈉溶液中所含溶質的克數來表示的（g/l）。如一升鋁酸鈉溶液中含120克Al2O3、100克Na2O，則氧化鋁和氧化鈉的濃度分别表示成Al2O3120g/l、Na2O 100g/l。 鋁酸鈉溶液的苛性比值 鋁酸鈉溶液中的Na2O包括與氧化鋁反應生成鋁酸鈉的Na2O和以遊離的NaOH形态存在的Na2O，它們都稱為苛性堿（以Na2Ok表示）。鋁酸鈉溶液中所含苛性堿與氧化鋁的摩爾比叫做鋁酸鈉溶液的苛性比值。以符号αk表示即： 式中 〔Nk〕——鋁酸鈉溶液中Na2Ok的摩爾數； 〔A〕——鋁酸鈉溶液中Al2O3的摩爾數。 拜耳法循環效率 循環母液每經過一次作業循環，便可以從鋁土礦中提取出一批氧化鋁。通常将1升（或1立方米）循環母液在一次作業周期中所生産的氧化鋁的克數（或kg數）稱為拜耳法的循環效率，以符号E表示。 原礦漿的磨制 原礦漿的磨制是将碎鋁礦按配比要求配入石灰和循環母液磨制成合格的原礦漿的過程。 原礦漿的技術指标要求：一般主要考核細度、固含、配鈣（氧化鈣添加量） 細度：+300μm≤1% (即60#篩上殘留≤1%) +63μm≤25