微粒研磨步驟

粗磨：要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的紋路粗，磨出的表面較粗糙，主要清除産品在前道工序中留有的鋸片痕迹并将産品的平整度，造型面磨削到位;

半細磨：将粗磨痕迹清除，形成新的較細的紋路，産品加工面平整、順滑;

細磨：細磨後的産品花紋、顆粒、顔色已清楚地顯示出來，表面細膩、光滑，開始有微弱的光澤度;

精磨：加工後的産品，無肉眼察覺的痕迹。表面越來越光滑，光澤度約40~50度左右;

抛光：表面明亮如鏡，具有一定的鏡面光澤度(85度以上)。注意：抛光磨石在被加工産品上抛光，待抛光産品燙手後，将闆面加适量水，以起到降溫作用，不允許連續加水或大量加水，否則，水的潤滑作用将會使抛光達不到理想效果，也不能全部使用幹抛光，過高的溫度會燒壞闆面，而且會使闆面出現裂紋。

物理化學原理

抛光的過程有2個，即“幹抛光與濕抛光”，抛光磨石在“幹與濕”之間當石材産品發生物理化學作用，幹抛光是在石材表面溫度升高使水分蒸發，導緻抛光磨石濃度增大，從而達到強化效果，産品光澤度開始達到了理想要求，光澤度達85度以上或更高。